La fabricació de semiconductors és actualment un dels camps industrials més extrems pel que fa als requisits de neteja. En primer lloc, com que l'amplada de línia del xip s'ha reduït al nivell nanòmetre, qualsevol partícula minúscula pot provocar curtcircuits o trencaments de circuits, cosa que requereix un entorn de producció i productes ultra nets a la indústria dels semiconductors.
A les fàbriques de semiconductors, s'han de transportar diversos productes químics i gasos d'alta{0}}puresa als equips de processament a través de canonades. Aquests fluids inclouen aigua ultrapura, solució de gravat, solució de revelat, base d'-àcid de puresa- alta i gasos especials.
Les canonades EP d'acer inoxidable asseguren l'alta puresa inicial d'aquests fluids durant el transport de canonades a causa del seu procés ultra net.
El motiu pel qual els tubs EP poden realitzar aquesta tasca es deu a les seves tres característiques principals:
1. La superfície interior extremadament llisa redueix molt l'adhesió i l'acumulació de partícules.
2. La pel·lícula densa de passivació d'òxid de crom millora la resistència a la corrosió de la canonada i evita que la precipitació d'ions metàl·lics contamini el fluid.
3. La superfície de la canonada no té cantonades mortes, cosa que pot prevenir eficaçment la retenció microbiana i és fàcil de netejar i esterilitzar.
